Advanced Process Control als Wegbereiter autonomer Prozessführung

Die Vision zunehmend autonom betriebener Prozessanlagen ist längst keine Zukunftsmusik mehr: In Teilen der Prozessindustrie ist sie bereits Realität, in anderen rückt sie in greifbare Nähe. Gleichzeitig wächst angesichts hoher Energie- und Rohstoffkosten, des Fachkräftemangels und steigender Qualitätsanforderungen der Bedarf, Prozesse effizienter, stabiler und nachhaltiger zu betreiben. Advanced Process Control (APC) bietet hierfür einen wichtigen Hebel. Auf dem 27. VDI-Kongress „Automation“ am 17. und 18. Juni 2026 in Baden-Baden geben Lena Lohner und Adrian Caspari von Siemens Einblicke in Technologien, Anwendungsfelder und praktische Umsetzungserfahrungen. Im Vorab-Interview erläutern sie, welchen Beitrag APC auf dem Weg zu stärker automatisierten und selbstoptimierenden Anlagen leisten kann.

CHEManager: Lassen Sie uns mit einer grundlegenden Einordnung beginnen: Wo endet klassische Automatisierung – und wo beginnt Advanced Process Control?

Adrian Caspari: Die klassische Automatisierung stößt dort an Grenzen, wo Prozesse stark gekoppelt, dynamisch und von mehreren Zielgrößen gleichzeitig geprägt sind. In der Prozessindustrie arbeiten wir in der Basis häufig mit PID- und Kaskadenregelungen, die sehr zuverlässig einzelne Regelgrößen stabilisieren. APC setzt darüber an: als zusätzliche, überlagerte Ebene, die physikalische, empirische oder datenbasierte Prozessmodelle nutzt, um mehrere Einfluss- und Zielgrößen gleichzeitig zu berücksichtigen. Der entscheidende Unterschied ist die Vorausschau. Ein zentrales APC-Verfahren ist die modellprädiktive Regelung. Sie prognostiziert das erwartete Prozessverhalten über einen definierten Zeithorizont und berechnet daraus fortlaufend eine optimale Stellstrategie unter Berücksichtigung technischer und betrieblicher Restriktionen.

Das klingt nach einem deutlichen Schritt in Richtung autonomer Betrieb. Welche Rolle spielt APC in diesem Kontext?