03.08.2018 • Themen

Tantal für Mikroapparate

Die Wandstärken mikroverfahrenstechnischer Apparate sind mit denen konventioneller Rührkessel in der chemischen Industrie nicht vergleichbar. Bereits Chargenunterschiede innerhalb der technischen Spezifikationen für übliche korrosionsbeständige Werkstoffe können zu signifikanten Abweichungen der Abtragsraten führen und die Lebensdauer signifikant begrenzen. Um Korrosionserscheinungen möglichst vollständig auszuschließen, eignet sich Tantal aufgrund seiner hervorragenden Beständigkeit sehr gut. In einer Studie konnte gezeigt werden, dass für Mikroapparate typische Kanalquerschnitte bei großer Länge mittels einer CVD-Beschichtung völlig defektfrei und homogen mit Tantal beschichtet werden können. Dauertests in 70 %iger Schwefelsäure ergaben keinerlei Masseverlust oder Abtrag.

Kontakt
DOI: 10.1002/cite.201700167
Thomas Gietzelt, Karlsruher Institut für Technologie, Eggenstein-Leopoldshafen
thomas.gietzelt@kit.edu
 

CHEMonitor

Meinungsbarometer für die Chemieindustrie

Meinungsbarometer für die Chemieindustrie

Trendbarometer für die Chemie- und Pharmaindustrie. Präsentiert von CHEManager und Santiago Advisors Management-Beratung für Strategie und Organisation.

Webinar

Die Ära Chemie 4.0 gekonnt meistern
ERP für die Chemie

Die Ära Chemie 4.0 gekonnt meistern

Während die Nachfrage an Chemieprodukten in Westeuropa nur langsam wächst, steigt der Bedarf in Schwellenländern überdurchschnittlich.

Meist gelesen

Photo

Single-Site Excellence

Interview mit Frank Wegener und Jörg Blumhoff, ESIM Chemicals, über die Wettbewerbssituation und ihre künftige Strategie im weltweiten CDMO-Markt.

Photo

Pioniere aus Tradition

Interview mit Peter Friesenhahn, CEO von Haltermann Carless, über die Ziele des Transformationsprogramms RACE und seine Pläne für das Unternehmen.