Stimmung bei Chemie-Führungskräften besser

Stimmung bei Chemie-Führungskräften besser

Die Bewertung der Personalpolitik in den Unternehmen durch die Chemie-Führungskräfte hat sich 2012 im Vergleich zum Vorjahr leicht verbessert. Das zeigt die diesjährige Befindlichkeitsumfrage des Führungskräfteverbandes VAA unter mehr als 2.000 leitenden und außertariflichen Angestellten der chemischen Industrie. Den ersten Platz im Ranking der Personalpolitik erreicht in diesem Jahr erstmals BASF. Der Vorjahresvierte Merck fällt dagegen deutlich zurück.

Die Durchschnittsnote der Unternehmen im Umfrageranking verbesserte sich von 3,3 im Vorjahr auf 3,1 in diesem Jahr. „Viele Unternehmen bemühen sich um eine bessere Kommunikation mit ihren Führungskräften. Der drohende Fachkräftemangel ist durch die Finanzkrise etwas in den Hintergrund getreten, aber die Arbeitgeber wissen, dass sie um die besten Köpfe kämpfen müssen", sagte Dr. Thomas Fischer, Vorsitzender des VAA.

Auch die drei bestplatzierten Unternehmen BASF, Boehringer Ingelheim und Lanxess konnten ihre Bewertung 2012 verbessern und rückten jeweils einen Platz im Ranking vor. Wacker Chemie, Spitzenreiter im Ranking 2011, fiel mit annähernd konstanter Bewertung auf Rang 4 zurück.

Deutlich schlechtere Noten als im Vorjahr erhielten erneut Unternehmen aus dem Pharmabereich: Nycomed/Takeda rutscht auf den letzten Rang im Ranking ab. Der Darmstädter Pharmakonzern Merck fällt mit der Gesamtnote 3,4 (2,8 im Vorjahr) von Platz 4 auf Platz 16 zurück. Auch die Führungskräfte bei Sanofi bewerteten die Personalpolitik in ihrem Unternehmen deutlich kritischer als vor einem Jahr.

Besonders deutlich im Ranking nach oben klettern konnten dagegen DuPont Deutschland (von 12 auf 7), Bayer (von 16 auf 12) und Evonik (von 9 auf 5). Der Essener Spezialchemiekonzern ist damit erstmals in den TOP 5 vertreten. Die jährliche VAA-Befindlichkeitsumfrage wurde 2012 zum elften Mal auf der Basis von Schulnoten durchgeführt. Sie ist ein unabhängiges Barometer für die Stimmung der Chemie-Führungskräfte.

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