21.08.2011 • NewsElektronikEvonikHexachlordisilan

Evonik investiert in den Zukunftsmarkt Elektronik

Evonik hat im badischen Rheinfelden mit dem Bau einer zweiten Produktionsanlage für Hexachlordisilan (HCDS) begonnen. Der Produktionsstart ist für die zweite Jahreshälfte 2012 geplant. Hexachlordisilan ist ein siliziumhaltiger Rohstoff für die Halbleiterindustrie und wird unter anderem für die effiziente und kostengünstige Herstellung von Speicherchips mit sehr hoher Speicherdichte eingesetzt. Solche sogenannten Flash-Speicher finden sich beispielsweise in Smartphones, Digitalkameras, MP3-Playern oder USB-Sticks. Auch Computer nutzen zunehmend statt der üblichen Festplatten sogenannte Solid State Drives, die aus Flash-Speicherchips bestehen.

Dr. Thomas Haeberle, im Vorstand von Evonik zuständig für das Segment Resource Efficiency: „Mit der neuen Produktionsanlage wollen wir unsere gute Position als Anbieter von Schlüsselroh-stoffen für die Elektronikindustrie weiter stärken." Evonik vertreibt Hexachlordisilan unter dem Markennamen Siridion® HCDS. „Wir schätzen die Marktaussichten für Hexachlordisilan als gut ein und wollen insbesondere die Halbleiterindustrie im asiatischen Raum damit beliefern", sagt Thomas Hermann, Leiter des Geschäft-bereichs Inorganic Materials.

Produktionsverfahren für Siliziumverbindungen zählt das Spezial-chemieunternehmen Evonik zu seinen wichtigsten Technologie-plattformen. Das Herstellungsverfahren besitzt eine Kapazität im zweistelligen 1.000-Kilogramm-Bereich. Für die Herstellung von Flash-Speicherchips arbeitet die Halbleiterindustrie in der Massenproduktion bereits heute mit Strukturgrößen von 25 Nanometern. Neue Generationen mit noch feineren Strukturen sind aber bereits in der Pipeline der großen Speicherchiphersteller. Die für solche feinen Strukturen notwendigen hauchdünnen, funktionellen Schichten lassen sich durch chemische Gasphasenabscheidung von Hexachlordisilan erzeugen. Die Vorteile von Siridion® HCDS liegen darin, dass es sich in der Chipherstellung bereits bei relativ niedrigen Temperaturen abscheiden lässt und sehr homogene funktionelle Filme erzeugt. Aufgrund des Einsatzes von hochreinen Rohstoffen bei der Herstellung von Siridion® HCDS ist die Konzentration von kritischen Metallspurenelementen im Produkt außergewöhnlich niedrig.

 

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