BASF errichtet neue Electronic Grade Ammoniumhydroxid-Anlage in Ludwigshafen
BASF baut eine hochmoderne Anlage für Ammoniumhydroxid Electronic Grade (NH4OH EG) in Ludwigshafen. Die wichtige, hochreine Chemikalie wird zur Waferreinigung, beim Ätzen und für andere Präzisionsprozesse in der Halbleiterfertigung benötigt.
Die Neuanlage wird das Wachstum und die Expansion von Halbleiterunternehmen in Europa unterstützen und eine verlässliche lokale Lieferkette für die Produktion fortschrittlicher Chips gewährleisten.
Die Investition steht im Einklang mit dem anhaltenden Engagement von BASF, die Widerstandsfähigkeit der Lieferkette für den europäischen Halbleitersektor zu stärken, die für den Erhalt der Wettbewerbsfähigkeit in einem sich schnell entwickelnden Markt von entscheidender Bedeutung ist. Der Betrieb wird voraussichtlich im Jahr 2027 aufgenommen.
Mit dem Bau sowie der Erweiterung mehrerer neuer Chipfertigungsanlagen in Europa steigt die Nachfrage nach hochwertigen und hochreinen Halbleiterchemikalien wie Ammoniumhydroxid. BASF investiert in die Wertschöpfungskette der Halbleiterchemie, die auf gegenseitigen langfristigen Kunden-Lieferanten-Verpflichtungen mit ihren strategischen Partnern basiert.
Ammoniumhydroxid Electronic Grade aus der neuen Anlage, ist für die Herstellung fortschrittlicher Chips unerlässlich und ermöglicht die Fertigung der nächsten Generation von Halbleitern, die für europäische Schlüsselindustrien, wie Automobil oder Künstliche Intelligenz, von entscheidender Bedeutung sind.
„Wir sind dankbar und stolz für das Vertrauen unserer Kunden in BASF und freuen uns ein langfristiger strategischer Partner bei ihren Wachstumsambitionen in der Region zu sein“, sagte Jens Liebermann, Senior Vice President, Electronic Materials, BASF. „Diese Investition verbessert nicht nur unsere Fähigkeiten, sondern stärkt auch unser Engagement und unsere Präsenz zur Unterstützung der Halbleiterindustrie in Europa“, sagte Gops Pillay, Leiter des BASF-Unternehmensbereichs Dispersions & Resins.
