Kooperation: BASF und Imec

Das Unternehmen hat angekündigt, dass es sich dem Industriepartnerprogramm von Imec zur gemeinsamen Forschungsarbeit für innovative Reinigungslösungen und fortschrittliche Metallisierungssysteme für die IC-Industrie angeschlossen hat. Die neuen Reinigungslösungen werden zu erhöhter Leistung und geringerer Komplexität bei der Herstellung von Halbleitern auf Basis von 32-Nanometer (nm)-Technologie und anderen Technologien führen. Es ist geplant, die neuen chemischen Reinigungslösungen mit Einführung der 32-nm-Technologie im Jahr 2010 auf den Markt zu bringen.