Prof. Robert Preisser, Vizepräsident Halbleiter-Technologie, Atotech, ist seit 2008 für Atotech am „College of Nanoscale Science and Engineering" in den USA tätig. Dort wird die „Chemie" für die Halbleiter- und MEMS-Industrie entwickelt und qualifiziert. Dr. Birgit Megges fragte Prof. Preisser, Vice Präsident Atotech, welche Vorteile die Kombination aus industrieller und akademischer Forschung und Entwicklung bringt.

CHEManager: Herr Prof. Preisser, warum sind Sie mit Ihrer Entwicklungstätigkeit an ein College und nicht zu einem Industriepartner gegangen?

Robert Preisser: Wir hatten mit Infineon im Jahre 2003 unsere Entwicklung in Berlin begonnen und auch erfolgreich beendet. Nach Albany sind wir gegangen, um ein breiteres Spektrum von Strukturen und Materialien zu bekommen, die den Abscheideprozess zum Teil wesentlich mit beeinflussen. Dies ist mit einem Industriepartner nicht möglich, da diese in spezifischen Applikationsbereichen die Strukturen und Materialien vorgeben. Darüber hinaus ist die Infrastruktur für Materialwissenschaften am CNSE hervorragend und hilft uns, die Chemieentwicklung zu beschleunigen.

Welche Vorteile bietet Ihnen das College?

Robert Preisser: Es gibt verschiedene Vorteile: Erstens finden wir dort eine komplette Halbleiter-Prozesslinie, in der wir mitarbeiten. Dabei können mit der vorhandenen Lithography-Technologie die heutigen und zukünftigen Strukturdimensionen im Nanobereich hergestellt werden.
Zweitens ist die Infrastruktur für Materialwissenschaften mit den modernsten, zum Teil noch nicht auf dem Markt angebotenen Instrumenten ausgestattet, womit das Feedback für materialwissenschaftliche Informationen unterstützt wird. Einige der Instrumente erreichen Auflösungsbedingungen bis in den atomaren Strukturaufbau.
Und drittens war es uns auch wichtig, Wissenschaftler rekrutieren zu können, die durch ihre Ausbildung mit der Nanotechnologie vertraut waren und sich in unsere Aufgabenstellung schnell einarbeiten konnten.

Sie haben dort 2008 bei „Null" angefangen. Wie ist der Stand der Dinge heute?

Robert Preisser: Wir sind 14 wissenschaftliche Mitarbeiter neben meiner eigenen Person, die sich mit dem Thema Nano-Struktur-Metallisierung beschäftigen. Wir haben bei 130-nm-Node (ITRS Road-Map) 2008 begonnen und sind über 90-nm-, 65-nm-, 45-nm-, 32-nm- heute bei 22-nm-Node-Technolgien angekommen. Von R&D-Partnerfirmen haben wir bereits Coupons mit 20-nm-Strukuren - entsprechend ca. 15-nm-Node-Technologie - erhalten und konnten diese mit unserer neuesten Chemie defektfrei mit Kupfer metallisieren; somit sind wir der ITRS-Roadmap um einige Jahre voraus.

Sind weitere Kooperationen in Zukunft notwendig bzw. geplant?

Robert Preisser: Ja, es sind weitere Kooperationen mit zwei Universitäten, der Case Western Reserve University in Cleveland, Ohio, und der Columbia University in New York City, und zwei Industriepartnern, IBM und Tokyo Electron, bereits parallel vorhanden. Der Grund ist, dass auch CNSE eigene Entwicklungsschwerpunkte hat. Diese liegen heute im Logik-Chip-Bereich, wir aber decken mit unserer Metallisierungschemie alle galvanischen Kupfer-Prozesse für Halbleiter und MEMS-Strukturen ab; dazu gehören Mikroprozessoren (MPUs), Digital-Prozessoren (DSPs) sowie Speicher. Dar­aus ergeben sich weitere Kombinationen von Materialien und Strukturen, an denen wir unsere Chemie und unser Know-how optimieren können.