Die modulare Lösung zur vollständigen Analyse von Spurenverunreinigungen in Prozessen bietet dem Anwender sowohl die gleichzeitige Überwachung unterschiedlicher Spurengase als auch die Bestimmung von Feuchtigkeit und Sauerstoff. Die neue Entwicklung mit robustem 6U-Rackmount-Gehäuse ist für das Labor und die industrielle Installation ausgelegt. Typische Anwendungen sind die Überprüfung der Qualität von UHP- und Spezialgasen in der Halbleiter- und Elektronikfertigung sowie in ASU-Produktionsanlagen. Im Energiesektor eignet sich die neue Entwicklung für die Überwachung der Reinheit von Wasserstoff und Schwefelhexafluorid (SF6). Weitere Anwendungen sind die UHP-CO₂-Analyse in der Lebensmittelproduktion und die Gasanalyse in Weinkellereien. Der Gaschromatograph kann mit FID/PED- oder TCD-Detektoren für Online-Spurenverunreinigungsmessungen konfiguriert werden und ist temperaturgesteuert, um zusätzliche Stabilität zu gewährleisten. Dank der beiden Probeneinlässe lassen sich zwei Gasströme parallel analysieren – er bietet also die gleiche Funktionalität wie zwei separate Geräte.