Oxea baut sein Angebot für Kunden in Nord- und Lateinamerika weiter aus. Dazu hat Oxea mit der Vorplanung für eine 2-Ethylhexanol- (2-EH) und eine Propanol-Anlage am Standort Bay City, Texas, begonnen. Beide Anlagen sollen Ende 2016 in Betrieb gehen. Wichtige Elemente der Vorplanung werden dabei auch für den Bau von Oxeas zukünftiger asiatischer Plattform für Oxo-Chemikalien in Duqm, Oman, verwendet. 2-EH wird bei der Herstellung von Acrylaten, Nitraten, Säuren und Weichmachern verwendet und dient unter anderem als Lösungsmittel in der Farben- und Lackindustrie. Propanol wird verwendet, um Produkte wie Kosmetika und Pharmazeutika, Druckertinten, Lacke und Klebstoffe herzustellen.

Die neuen Anlagen ergänzen die aktuelle Kapazitätserweiterung des Oxea-Werks in Bay City, mit der die momentanen Produktionsmengen von Butanol und Propanol um 25 % gesteigert werden. Dieses zusätzliche Volumen soll in der zweiten Jahreshälfte 2014 zur Verfügung stehen.

"Oxea ist einer der führenden Lieferanten für Oxo-Produkte wie Alkohole, Aldehyde und Säuren. Wir investieren weiterhin in unsere Produktionsplattformen, um das Wachstum unserer Kunden zu unterstützen und der steigenden Nachfrage der Märkte zu entsprechen. Nach der Inbetriebnahme werden unsere 2-EH-Kunden in Amerika von unseren erweiterten Lieferfähigkeiten für diese wichtige Chemikalie profitieren", sagte Miguel Mantas, verantwortlich für Vertrieb und Marketing in der Oxea-Geschäftsführung. "Wir investieren auch weiterhin in Propanol, um das Wachstum unserer Kunden zu unterstützen", fügte er hinzu.

"Die neuen Anlagen für 2-EH und Propanol in Nordamerika unterstützen nicht nur unsere Strategie des geschäftlichen Wachstums und der Effizienzsteigerung unserer Standorte. Sie unterstreichen auch unser Vertrauen in die Wettbewerbsfähigkeit der US-amerikanischen Petrochemie-Branche und bekräftigen unser Engagement in den nord- und lateinamerikanischen Märkten", kommentierte Dr. Martina Flöel, Sprecherin der Geschäftsführung von Oxea und verantwortlich für Produktion und Technik.