Die Firma NanoFocus, Entwickler und Hersteller optischer 3D-Oberflächenmesstechnik, hat das neue Messsystem µsprint hp-opc 3000 für die optische Inspektion von Probe Cards vorgestellt. Es ermöglicht einen innovativen und zukunftsweisenden Prozessschritt in der Wafer-Produktion. Der Prozess ist speziell auf die Bedürfnisse von Wafer Test-Standorten mit einer Vielzahl verschiedener Probe Cards sowie einen großvolumigen Durchsatz ausgelegt. Eine Pilotanlage befindet sich bereits bei einem namhaften Hersteller von Halbleiterelementen im Einsatz. Die Aufgabe des Systems ist die Sicherstellung von unversehrten Wafern nach dem Testvorgang, die Reduzierung von Yield Verlusten sowie die zeitliche und zahlenmäßige Minimierung aufwendiger Instandhaltungszyklen. Das prozessfähige Kapazitätstool kann über eine SECS/GEM Kommunikationsschnittstelle in Prozessleitsysteme integriert werden und folgt allen notwendigen und gängigen Standards, die in Front End Wafer Test-Standorten erforderlich sind.