Die Wacker Chemie hat ein Projektteam von Siltronic, der Halbleitersparte des Konzerns, für die Entwicklung eines neuartigen Prozesses zur Herstellung von Siliciumwafern für Hochleistungs-Bauelemente mit dem „Alexander Wacker Innovationspreis" ausgezeichnet. Der sog. granulare Float-Zone-Prozess stellt eine Weiterentwicklung des herkömmlichen Float-Zone-Verfahrens dar und eröffnet technologisch interessante Perspektiven für den Markt spezieller Performance-Wafer. Der mit 10.000 € dotierte Innovationspreis war in diesem Jahr in der Kategorie Prozessinnovation ausgeschrieben worden.
Wafer aus hochreinem Silicium bilden die Grundlage für mikroelektronische Bauelemente (Chips) und Photovoltaikmodule. Zur Herstellung dieser Wafer werden international zwei Verfahren eingesetzt. Als Standardprozess gilt das Czochralski-Verfahren, bei dem stückiges Silicium aufgeschmolzen wird. Mittels eines Impfkristalls wird aus der Schmelze ein monokristalliner Siliciumstab, ein sogenannter Ingot, gezogen. Beim alternativen Float-Zone-Verfahren wird ein noch polykristalliner Siliciumstab durch eine Induktionsheizung zonenweise aufgeschmolzen und die schmale Schmelzzone ebenfalls mit einem Impfkristall als Kristallisationskeim in Berührung gebracht. Beim Erkalten der aufgeschmolzenen Zonen bildet sich dann die angestrebte monokristalline Struktur aus. Das Zonenziehverfahren ist allerdings deutlich aufwändiger als der alternative Czochralski-Prozess. Dieses Verfahren kommt deshalb vor allem bei Bauelementen in der Leistungselektronik zum Einsatz, bei denen Wafer mit einer besonders hohen Reinheit und Defektfreiheit gefordert sind.
Von einem Team aus Siltronic-Entwicklern unter Leitung von Dr. Georg Raming wurde das Float-Zone-Verfahren nun so verändert, dass statt der aufwändig zu fertigenden Siliciumstäbe, der sog. Rods, granulares Silicium verwendet werden kann. Das patentgeschützte Verfahren haben die Entwickler granularen Float-Zone-Prozess genannt.
„Der neue granulare Float-Zone-Prozess stellt für den Markt der Hochleistungs-Bauelemente eine interessante Alternative zum herkömmlichen Zonenziehverfahren dar", sagte Auguste Willems, Vorstandsmitglied der Wacker Chemie, der den Preis auf dem Forschungssymposium des Konzerns in Burghausen an das Entwicklerteam übergab. „Der prämierte Produktionsprozess", sagte Willems weiter, „verfügt über das Potential, spezielle Performance-Wafer hervorzubringen, die über sehr ähnliche Eigenschaften verfügen wie die bislang im industrieüblichen Float-Zone-Verfahren produzierten Wafer."

Über den „Alexander Wacker Innovationspreis"
Seit 2005 würdigt der Münchner Chemiekonzern im Rahmen seines alljährlich stattfindenden Forschungssymposiums herausragende Forschungs- und Entwicklungsarbeiten von Mitarbeitern. Der nach dem Unternehmensgründer benannte und mit jeweils 10.000 € dotierte „Alexander Wacker Innovationspreis" wird abwechselnd in den Kategorien Produktinnovation, Prozessinnovation und Grundlagenforschung verliehen. Im nächsten Jahr wird der konzernweite Forschungswettbewerb in der Kategorie „Grundlagenforschung" ausgeschrieben.