Anorganische Siliziumoxidschichten auf nanoskaligen Partikeln sind von breitem Interesse. So können z. B. ungewollte Partikeleigenschaften unterdrückt, Katalysatorpartikel stabilisiert oder die Dispergierbarkeit verbessert werden. Eine Alternative zu herkömmlichen Herstellverfahren könnte ein Plasma-unterstützer Aerosolprozess sein, der die kontinuierliche Beschichtung von Partikeln mit Siliziumoxid bei Umgebungstemperatur ermöglicht, sodass sich auch temperaturempfindliche Stoffe beschichten lassen. Dabei werden reaktive Spezies mithilfe einer dielektrischen Barriere-Entladung erzeugt. Als Precursor dient Tetraethylorthosilikat. Ein weiterer Vorteil ist die weitgehende Unabhängigkeit des Prozesses von der Partikelquelle. In einer Studie wurden unterschiedliche Partikelgeometrien und -materialien, wie Metalle, Salze und Kunststoffe erfolgreich beschichtet. Die Schichtdicke ließ sich gut über die Kombination von Verweilzeit und Precursorkonzentration einstellen.

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DOI: 10.1002/cite.201700109
Patrick Post, TU Clausthal
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